分析基體：鐵、鋁、銅、鎳、鎂、鋅、鈦。
分析程序如下表：
技術參數：
光學系統
高性能全息衍射光柵，光柵刻線2700條/mm，一級色散率：0.74nm/mm，二級色散率：0.37nm/mm；
焦距：400 mm；
譜線波長：170 - 430nm；具體配置范圍由實際客戶應用選擇；
單個CCD 3648像素，最大16*3648像素的分辨率；
全光學系統自動描跡；
密閉的真空光室可以避免灰塵、光線的干擾；
溫度穩定系統，光室恒溫溫度：33℃±0.1°C；
采用特殊材料應對漂移；
光室安裝阻尼橡膠墊防止震動；
直通式光路設計，不需通過光纖衰減，數據的長期穩定性好，曲線漂移小，設計簡單易維護。
火花臺（激發臺）
開放式的火花激發臺,可分析重達20KG各種形狀的樣品；
氬氣吹掃火花臺，低氬氣消耗；
靜態氬氣吹掃設計使熱機時間小于5分鐘；
電極易于拆卸維護；
便捷樣品夾帶有安全保護，放置異常不能激發；
擁有智能控制充氣系統：潮汐式沖洗方式，冷機（關機 12 小時）啟動不大于 30min，熱機啟動時間約5min、超低待機流量小于60ml/min；
不同樣品的適配器可滿足各種樣品的需求（可選），可分析不同直線的線材。
火花電源
計算機全自動控制火花源，可根據測試材料進行多種參數設置；
半導體控制放電激發；
1 到 100 A等離子體電流；
放電參數由密碼保護；
激發參數可調；
穩定的火花光源系統不受供電系統波動影響；
激發參數由激發線和分析程序標定和控制；
分析時間：15-30秒；
高低兩種激發頻率設計，且火花頻率20-1000HZ可調。
控制、電子采集和數據讀出系統
火花持續時間10-10000us可調；
微處理器控制多通道積分和數據采集系統；
高速16位模數轉換器；
ISP混合信號Flash微控制器100MHz；
高速USB數據傳輸設計；
最多可達16塊高性能CCD檢測模塊，可定制。
WinLab 分析軟件
Window 操作系統下使用；
Office操作習慣軟件，便于用戶操作的圖形界面；
監測、控制儀器狀態，自我診斷功能；
處理、計算儀器數據；
同時測定各元素與背景；
計算每種元素的校正曲線需考慮到各種基體（參考線）；
譜線數據庫；
標準物質數據庫；
歷史數據數據庫；
圖形處理功能，自動計算通道強度并扣除背景強度；
自動光路校準功能；
創建或修改分析程序；
曲線校準擬合；
基體校正；
校正元素間的干擾；
標準化功能；
控樣校正功能；
測量數據處理功能；
統計計算功能，計算平均值、標準偏差和相對標準偏差；
支持C當量或其他參數的計算；
標記超出校準曲線范圍的的分析結果；
顯示測試結果和統計值；
編輯樣品信息，按編輯模板打印，或保存到歷史數據庫功能；
數據傳輸到外部計算機或中心系統功能；
用戶現場可根據需要添加其它合金基體的金屬材料牌號的曲線。
電源
220V +/- 10%，單相，50/60 Hz， 10 A， 1.0 KVA。
實驗室環境
溫度: 10-30℃；
相對濕度：20-80%。
特性優點：
卓越、快捷的分析性能；
動態范圍：從ppm—％；
開闊的火花臺以及特殊的小樣品夾具，保證儀器適用于各種形狀的金屬樣品分析；
精確：優于1%偏差；
優異的氮、氧元素分析性能；
高穩定性，高可靠性；
檢測器系統可選配最多達16塊高性能CCD增加儀器基體及元素分析升級的靈活性；
高等級標樣標定；
PC控制的變頻高能預火花（HEPS)；
高精度的溫度與壓力控制；
高級軟件功能，操作便捷，易于掌握；
適用于各種金屬材料分析。
